国家标准计划《集成电路 电磁发射测量 第2部分：辐射发射测量 TEM小室和宽带TEM小室法》由 TC599（全国集成电路标准化技术委员会）归口 ，主管部门为工业和信息化部（电子）。

主要起草单位 中国电子技术标准化研究院 、北京智芯微电子科技有限公司 、华大半导体有限公司 、联合汽车电子有限公司 、矽力杰半导体技术（杭州） 、航天772所 、工信部电子第五研究所 、天津市滨海新区军民融合创新研究院等 。

本标准等同采用IEC国际标准：IEC 61967-2:2005。

采标中文名称:集成电路 电磁发射测量 第2部分：辐射发射测量 TEM小室和宽带TEM小室法。

本标准的目的是规定用TEM小室和GTEM小室两种测试方法测量集成电路的辐射发射。

其意义在于为集成电路的辐射电磁发射测量提供了测量依据，从而可以从集成电路的角度控制辐射电磁发射、提高整机的EMC性能，为考核和提高我国集成电路产品的电磁兼容性提供了依据和可能。

本测量程序规定了集成电路（IC）的电磁辐射测量方法。IC将安装在印刷电路板上，在TEM或GTEM中进行测试。主要技术内容包括测量原理、测量条件、试验仪器、试验布置、试验过程和试验报告。