国家标准计划《电子特气 六氯乙硅烷》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口,TC203SC1(全国半导体设备和材料标准化技术委员会气体分会)执行 ,主管部门为国家标准委。
主要起草单位 洛阳中硅高科技有限公司 、西南化工研究设计院有限公司等 。
| 71 化工技术 |
| 71.100 化工产品 |
| 71.100.20 工业气体 |
电子特气—六氯乙硅烷作为一种性能稳定、挥发性低的湿度敏感性的电子特气产品,主要用于半导体行业氧化硅膜、氮化硅膜的制备,也是优良的硅氧烷前驱和光化学纤维原料,在半导体、光电材料等领域有着广泛的应用前景和实际价值。
与传统的化学气相沉积法制备的氧化硅、氮氧化硅薄膜相比,六氯乙硅烷的沉积温度低、沉积压力低、效率高,且得到薄膜的密度、绝缘性、抗腐蚀性、兼容性皆更优。
2018年3月,九大部委联合发布的《新材料标准领航行动计划(2018~2020)》中明确提出应建立和完善硅基半导体材料标准体系,建立超高纯特种电子气体等关键材料系列标准,加速集成电路制造产业国产化。
六氯乙硅烷作为特种电子气体的系列产品,该标准的制定符合《新材料标准领航行动计划(2018~2020)》的要求。
2018年9月,工信部网站发布了关于《重点新材料首批次应用示范指导目录(2018版)》的公告。
该公告中将纯度99.5%的六氯乙硅烷列为重点新材料,本次制定的六氯乙硅烷纯度高于该公告的规定。
通过对标准的制定,旨在对生产和检测提供指导性作用,对下游半导体产业的发展提供质量保障。
有利于提高我国高端电子材料自给能力,推动电子相关产业进步,扩大我国高纯电子材料对外影响力,有效服务于国家战略需求。
本标准适用于以多晶硅副产品为原料提纯和化工合成的电子特气六氯乙硅烷。它主要用于半导体行业氧化硅膜、氮氧化硅膜的低温低压沉积工艺中,也是优良的硅氧烷前驱和光学纤维原料。 本标准规定了电子特气六氯乙硅烷的技术要求,试验方法,检验规则及产品的包装、标志、运输、贮存及安全要求。 技术要求部分包含对组分和痕量金属杂质的要求,具体指标如下: 试验方法部分包含了六氯乙硅烷组分的气相色谱测试方法和六氯乙硅烷杂质的电感耦合等离子体质谱测试方法;包装部分详细规定了电子特气液体产品的包装要求。