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国家标准计划《电子工业用气体 氟甲烷》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 浙江省化工研究院有限公司西南化工研究设计院有限公司湖北省标准化与质量研究院湖北光谷标准创新科技有限公司等

目录

基础信息

计划号
20184309-T-469
制修订
制定
项目周期
24个月
下达日期
2018-12-29
申报日期
2017-08-26
公示开始日期
2018-07-26
公示截止日期
2018-08-10
标准类别
产品
国际标准分类号
71.100.20
71 化工技术
71.100 化工产品
71.100.20 工业气体
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

目的意义

电子工业用氟甲烷因其无毒无臭、高稳定性被广泛应用在半导体制造过程中,例如作为蚀刻剂、化学气相沉积后腔体的清洗剂。

随着半导体器件的发展,集成电路精度要求越来越高,常规的湿法腐蚀不能满足0.18~0.25 μm的深亚微米集成电路高精度细线蚀刻的要求; 而氟甲烷作为干腐蚀剂具有边缘侧向侵蚀现象极微、高蚀刻率及高精确性的优点,可以极好地满足此类线宽较小的制程的要求。

目前我国电子工业用氟甲烷气体基本依靠从国外气体公司进口,然而国外各气体公司规定的产品技术指标差别较大,因此制定出符合我国电子工业领域实际使用情况的产品技术要求及检测方法对质量控制、贸易及今后氟甲烷国内产业化生产均有重要意义。

范围和主要技术内容

本标准规定了电子工业用氟甲烷的技术要求,试验方法、检验规则、包装、标志、贮存、运输和安全。 本标准适用于氯甲烷、无水甲醇、二甲醚与无水氟化氢进行氟化反应,并经过精制提纯而得的氟甲烷产品。主要在电子工业等离子蚀刻工艺中作为蚀刻气体或在电子器元件作为清洗剂。