国家标准计划《硅片表面光泽度的测试方法》由TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 浙江金瑞泓科技股份有限公司 、天津中环领先材料技术有限公司 、有研半导体材料有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 。

本标准规定了采用20°、60°和85°几何条件测试硅片表面光泽度的方法，包括术语和定义、原理、仪器、试样、测试环境、试验步骤、结果计算、试验报告等。本标准主要适用于硅片表面光泽度的测定。如果需要适用于其他产品，需要相关各方协商同意。 在规定的光源和接收角的条件下，从物体镜像方向的反射光通量与折射率为1.567的玻璃上镜像方向的反射光通量的比值为光泽度。光泽度通常以数值计，单位为（GU）。 光泽度计由光源、透镜、接收器和显示仪表等组成，光源射出一束光经过透镜L1到达被测面P，被测面将光反射到透镜L2，透镜L2将光束会聚到位于光阑B处的光电池处，光电池进行光电转换后，将电信号送往处理电路进行处理，然后仪器显示测试结果；整个测试过程中默认光源稳定，不会发生变化。