国家标准计划《激光器和激光相关设备 光腔衰荡高反射率测量方法》由 TC103（全国光学和光子学标准化技术委员会）归口，TC103SC6（全国光学和光子学标准化技术委员会电子光学系统分会）执行 ，主管部门为中国兵器工业集团公司。

主要起草单位 电子科技大学；中国工程物理研究院；中国科学院光电技术研究所；中国科学院大连化学物理研究所；中国兵器工业标准化研究所; 、西南技术物理研究所 。

本标准等同采用ISO国际标准：ISO 13142:2015。

采标中文名称:激光器和激光相关设备 光腔衰荡高反射率测量方法。

随着光学薄膜沉积技术的发展，光学薄膜元件，尤其是广泛应用于高功率激光系统、激光干涉引力波探测、激光陀螺、腔增强和腔衰荡光谱测量中的高反射薄膜元件的反射率远超出传统分光光度技术能准确测量的范围，精确测量这些反射元件的高反射率具有重要意义。

国际标准化组织（ISO）在对反射光学元件反射率的测量上最早在国际标准ISO 15368上做了相应的规定，但该标准基于分光光度技术，反射率测量精度为+/-0.3%左右，无法满足高于99.8%反射率的准确测量。

为了满足不断提高的反射率准确测量的需求，2015年，国际标准化组织出版发行了ISO 13142，专门适用于高于99%反射率的准确测量，反射率最高测量准确度可达到0.0001%。

该标准规定采用光腔衰荡技术测量高反射率，系统规范了光腔衰荡技术测量高反射率的测试原理及装置组成、测量流程及数据处理方法、误差分析以及检测报告格式等。

目前，国内在高反射率测试方面仅有国军标GJB8419-2013可参考，由于光腔衰荡技术的快速发展，GJB8419-2013中规定的测量方法构型已不能完全满足当前技术的发展。

为提高国内该领域测试数据的通用性，需参照ISO 13142：2015制定相应的国家标准，使高反射率测量方法及测试结果在国际上具有可比性，利于国内外的技术交流。

电子科技大学是国际标准ISO13142的编制单位，中国工程物理研究院、中国科学院光电技术研究所、中国科学院大连化学物理研究所是国军标GJB8419-2013的编制单位，都在高反射率测量技术研究和工程应用有多年积累，高反射率测试研究处于国际领先水平。

而西南技术物理研究所长期从事高反射光学元件的制备和测试工作，配备高反射率测试设备，中国兵器工业标准化研究所在标准制定有长期激励，有利于本标准的编制和验证测试。

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本标准的范围：规定了反射率高于99%的反射光学元件的反射率测量方法 - 光腔衰荡技术。主要技术内容：光腔衰荡技术测量高反射率的测试原理及装置组成、测量流程及数据处理方法、误差分析以及检测报告格式等

国家863计划项目 光学薄膜测试技术（具体项目名称和编号涉密）

1、一种用于测量高反射率的装置，专利号：ZL200810055653.4，授权公告日：2010.06.16 2、一种反射率综合测量方法，专利号：ZL201010608932.6，授权公告日：2012.08.08 3、Cavity ring-down apparatus and method for measuring reflectivity of highly reflective mirrors, 专利号：US 7679750 B2，授权日：2010.03.16