国家标准项目《集成电路用光掩模保护膜》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口 ，主管部门为国家标准委。

主要起草单位 上海高光微半导体科技有限公司 、上海集成电路材料研究院有限公司 、中国电子技术标准化研究院 。

集成电路用光掩模保护膜。

本标准规定了集成电路用光掩模保护膜产品结构、要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输和贮存。 本标准适用于集成电路制程中覆盖光掩模的保护膜。 本标准分别给出了集成电路用光掩模保护膜理化性能要求、均匀性指标和缺陷控制指标。

电子信息产业质量基础设施体系建设、发展分析及重要标准和可靠性突破；集成电路用有机湿电子化学品及材料分析关键技术研究