国家标准计划《半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法》由 TC203（全国半导体设备和材料标准化技术委员会）归口上报，TC203SC2（全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会）执行 ，主管部门为国家标准化管理委员会。

主要起草单位 有研半导体材料有限公司 、浙江金瑞泓科技股份有限公司 、中科钢研节能科技有限公司 、浙江海纳半导体有限公司 。