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国家标准计划《半导体晶片表面金属沾污的测定 全反射X射线荧光光谱法》由 TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行 ,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司中科钢研节能科技有限公司浙江海纳半导体有限公司

目录

项目进度

基础信息

计划号
20211956-T-469
制修订
修订
项目周期
18个月
下达日期
2021-07-21
全部代替标准
GB/T 24578-2015
标准类别
方法
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

投票情况

投票日期
2020-01-03~2020-01-08
通过率
98.11%

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