国家标准《掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则》 由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口 ,主管部门为国家标准化管理委员会。
主要起草单位 中国科学院微电子中心 。
GB/T 16879-1997 现行
本标准等同采用其他国际标准:SEMI P21:1992。
采标中文名称:。