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国家标准《硅片表面薄膜厚度的测试 光学反射法》由TC203(全国半导体设备和材料标准化技术委员会)归口上报,TC203SC2(全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会)执行,主管部门为国家标准化管理委员会

主要起草单位 有研半导体材料有限公司山东有研半导体材料有限公司浙江金瑞泓科技股份有限公司优尼康科技有限公司中环领先半导体材料有限公司浙江海纳半导体有限公司麦斯克电子材料股份有限公司翌颖科技(上海)有限公司开化县检验检测研究院

主要起草人 徐继平宁永铎卢立延孙燕张海英由佰玲潘金平李扬胡晓亮张雪囡楼春兰盘健冰

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标准状态

基础信息

标准号
GB/T 40279-2021
发布日期
2021-08-20
实施日期
2022-03-01
中国标准分类号
H21
国际标准分类号
77.040
77 冶金
77.040 金属材料试验
归口单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会
执行单位
全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分会
主管部门
国家标准化管理委员会

起草单位

起草人

徐继平
宁永铎
张海英
由佰玲
胡晓亮
张雪囡
卢立延
孙燕
潘金平
李扬
楼春兰
盘健冰

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